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簡要描述：低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。 醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥。 科學實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-09-17訪 問 量：23400產(chǎn)品分類
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| 品牌 | 冠特制冷 | 工作方式 | 風冷、水冷 |
|---|---|---|---|
| 恒溫波動度 | ±0.3℃℃ | 恒溫范圍 | -150℃-350℃℃ |
| 冷卻方式 | 水冷式 | 價格區(qū)間 | 1萬-2萬 |
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 儀器種類 | 一體式 |
| 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,石油,能源,制藥/生物制藥 |
低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥?？茖W實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。
半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫制冷循環(huán)水溫機技術(shù)參數(shù)：
型號 | ℃ 溫度范圍 | L/min bar 循環(huán)泵 | 電源 | （kw） at （℃） 制冷量 | 加注冷媒 | |||
-20 | -35 | -55 | ||||||
DW-418 | —40～30 | 20 | 0.7 | 220/380V 50/60HZ | 1.2 | 0.4 | R404A R407C | |
DW-440 | —40～30 | 20 | 0.7 | 2.7 | 0.75 | |||
DW-462 | —40～30 | 35 | 1 | 3.8 | 1.1 | |||
DW-490 | —40～30 | 35 | 1 | 5.5 | 1.5 | |||
DW-4A1 | —40～30 | 35 | 1 | 7 | 2.1 | |||
DW-4A2 | —40～30 | 80 | 1.5 | 14 | 4 | |||
DW-618 | —60～—20 | 20 | 0.7 | 0.6 | 0.4 | R404A R23 R13 | ||
DW-630 | —60～—20 | 20 | 0.7 | 1.1 | 0.6 | |||
DW-662 | —60～—20 | 35 | 1 | 2 | 1.15 | |||
DW-6A1 | —60～—20 | 35 | 1 | 3.5 | 2 | |||
DW-6A2 | —60～—20 | 75 | 1.5 | 13 | 5., 8 | |||
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